代表取締役 |
門倉 貞夫
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設立 |
1996年 6月18日 （平成8年6月18日）
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所在地 |
■ 本社
〒194-0024 東京都八王子市宇津木町940-165
TEL：042-645-8224 FAX：042-645-8231
■ 相模原研究室
〒229-1131 神奈川県相模原市緑区西橋本5-4-21
さがみはら産業創造センター SIC1-101,102号室
TEL/FAX：042-770-9403
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資本金 |
2,000万円
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取締役 |
門倉 貞夫
安福 久直
門倉 聖子
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監査役 |
中野 道雄
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事業内容 |
1. 真空機器の設計、製造、販売
2. 半導体、表示素子、等の電子部品の製造、販売
3. 磁気記録材料の製造、販売、等
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営業品目 |
1. 超薄膜作製用スパッタリング装置
2. 高密度磁気ヘッド・磁気ディスク作製用スパッタリング装置
3. 高密度磁気テープ作製用スパッタリング装置
4. 多目的研究用スパッタリングユニット
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取引銀行 |
東京三菱UFJ銀行 豊田支店
みずほ銀号 八王子支店
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企業理念
- エフ・ティ・エス コーポレーションはプラズマ制御工学を応用した新素材の創出に
- 最適なインフラ創生を通じて自然との調和の取れる豊かな産業社会の成長に貢献します。
経営方針
- １．顧客満足度を最優先する。
・ 迅速な問題解決に注力し相互信頼を深める心技体に徹する。
- ２．基本に立ち戻りトライアンドエラーで社内外に信頼を勝ち取る。
・ 最良の製品・品質・サービスの実現を目指す。
- ３．不断の努力でグローバルな顧客ニーズを先取りする技術革新の実現に挑戦する。
・ 出会いを大切にして自己啓発に努め情熱と誠意を持って道を切り開く。
- ４．社会に有用な差別化製品の実現により企業発展の基板をつくる。
・ 情報技術と完成をバックボーンとした楽観と与慶を敬愛しよう。
・ 企業リスクを公平に配分する仕組みを明文化しつつ進化する。
社員行動指針
- １． 情熱を傾けを目標に決めたら率先垂範しチームに活力と実績をもたらそう。
- ２． 決断し実行に移したら辛抱強く成功と信頼を勝ち取るまで頑張ろう。
- ３． 日に我が身を三省し、目標と実現の関係をチェックしよう。
- ４． 「一つの成功は次なる目標への一里塚である」ことをモットーにしよう。
平成8年6月 |
会社設立
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平成9年7月 |
創造的事業活動の推進に関する臨時処理法第4条3項の規定に基づいた認定を受理（9労経計計創第557号）
平成9年度東京都創造的技術開発助成金交付の決定（9労経計計創第338号）
資本金を1000万円に増資
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平成10年2月 |
認定研究開発事業計画の変更に関する認定を受理（9労経計計創第557号の2号）
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平成10年3月 |
帝人(株)より対向ターゲット式スパッタ装置とその製法に関する特許権の譲渡を受理
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平成11年1月 |
三和ベンチャー育成基金の認定を受理
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平成11年3月 |
富士ニュービジネス育成基金の認定を受理
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平成11年4月 |
株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーションに改組
平成11年度東京都創造的技術開発助成金交付の決定（11労経計計大105号）：「フレキシブル電子デバイス作製用新装置の開発」
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平成11年7月 |
資本金2000万円に増資
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平成12年2月 |
平成11年度東京都創造的技術開発助成に基く「フレキシブル電子デバイス作製用新装置」開発完成
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平成12年3月 |
認定研究開発事業計画の変更に関する認定を受理（9労経計計創第557号の2号）
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平成14年8月 |
SBIR R/D 「省エネルギーフィルム製造技術創生」課題受託研究開始（中小企業総合事業団）
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平成15年4月 |
ターゲット幅140cmの箱型プラズマ源開発
広幅ウェブコーター開発開始
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平成15年6月 |
SBIR R/D 「省エネルギーフィルム製造技術創生」課題受託（第2年度）
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平成15年9月 |
平成15年東京都外国特許出願費用採択（NFTS技術関連）
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平成16年4月 |
半導体用静止対向型NFTS装置開発
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平成17年10月 |
平成17年東京都外国特許出願費用採択（NFTS技術関連）
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平成17年11月～20年3月 |
ＮＥＤＯ助成による「新対向ターゲット式スパッタによる透明断熱フィルムの実用開発の推進」
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平成20年12月 |
日本製鋼所株式会社とのNFTS量産装置共同開発開始
「NFTS透明断熱フィルム」の有償テスト開始
「セミコンジャパン2008」に出展（日本製鋼所株式会社ブース）
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(財) 山形県有機エレクトロニクス研究所
(財) 秋田県高度技術研究所
(財) つくば産総研
(財）理化学研究所
東京工業大学メカノマイクロ工学専攻
東京工業大学電子物理工学科
東京工芸大学工学部
新潟大学工学部
山形大学工学部
※ 企業様との取引に関しては機密保持の関係上開示致しません。 官公庁関連先のみ開示致します。