株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーション　《新対向ターゲット式スパッタ装置 NFTS 専門真空メーカー》

　株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーションが提供する新対向ターゲット式スパッタ（New Facing Targets Sputtering)「NFTS」技術は高密度プラズマを箱型空間に拘束すること により、堆積基板への高エネルギー種（反跳粒子、イオン、電子）の衝撃によるダメージを抑制できる原理・構造を特徴とする成膜技術です。

　このNFTS技術により、これまでのスパッタ技術では困難とされていた低温・低ダメージ で高品質な薄膜を形成することができ、かつ高い生産性を有する成膜技術となっています。また、NFTS技術により形成される薄膜は従来のスパッタ技術により形成される薄膜と比較し、粒子界面に空隙の少ない緻密な膜を形成することができます。

　 さらに、NFTS技術は大型プラズマ源の開発により、次世代新材料・デバイスの研究開 発用の小型実験装置から量産用の大型装置まで幅広く対応することにより、あらゆるお客様のニーズにお答えする体制を整えています。