株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーション　《新対向ターゲット式スパッタ装置 NFTS 専門真空メーカー》

　株式会社 エフ・ティ・エス コーポレーションが提供する新対向ターゲット式スパッタ（New Facing Targets Sputtering)「NFTS」技術は高密度プラズマを箱型空間に拘束すること により、堆積基板への高エネルギー種（反跳粒子、イオン、電子）の衝撃によるダメージを抑制できる原理・構造を特徴とする成膜技術です。

　このNFTS技術により、これまでのスパッタ技術では困難とされていた低温・低ダメージ で高品質な薄膜を形成することができ、かつ高い生産性を有する成膜技術となっています。また、NFTS技術により形成される薄膜は従来のスパッタ技術により形成される薄膜と比較し、粒子界面に空隙の少ない緻密な膜を形成することができます。

　 さらに、NFTS技術は大型プラズマ源の開発により、次世代新材料・デバイスの研究開 発用の小型実験装置から量産用の大型装置まで幅広く対応することにより、あらゆるお客様のニーズにお答えする体制を整えています。

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　　◆ NFTS装置の販売
　　　　○ 基礎研究用、研究開発用、量産用装置まで全て対応
　　　　（基板回転式装置、インライン式装置、基板回転式装置、ウェブ式装置）
　　　　※ NFTSプラズマ源のみの販売も対応可能
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　　◆ 反射型透明断熱フィルムの販売
　　　　○ 反射型透明断熱フィルムサンプル販売
　　　　○ 反射型透明断熱フィルム受託研究開発 （サンプル作製）
　　　　○ 反射型透明断熱フィルム応用製品の研究開発
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　　◆ NFTS装置を用いた研究開発支援サービス
　　　　○ 有機デバイス（有機EL、有機半導体）への電極形成、バリア膜形成
　　　　○ プラスチックフィルムへのコーティング （サンプル作製）
　　　　○ 酸化物薄膜を中心とする結晶薄膜の受託研究開発 （サンプル作製）
　　　　○ 光学デバイスの受託研究開発 （サンプル作製）
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　　◆ 薄膜材料・MEMSデバイス研究開発支援サービス
　　　　○ コンビナトリアルスパッタ法による薄膜材料開発支援
　　　　○ 薄膜材料物性評価サービス
　　　　○ MEMSデバイス受託研究開発 （サンプル作製）
　　　　※ 本サービスは東京工業大学 精密工学研究所 秦先生の協力により実施
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